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Rigorous Simulation for Impact of Self-Aligned Multiple Patterning on Alignment
Mingyi Yao,Yuejing Qi, Guangying Zhou,Liang Li,Miao Jiang, Elly Shi
2023 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS)pp.1-3, (2023)
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Simulation study on the robustness of polar mark for incident light polarization states
Guangying Zhou,Yuejing Qi, Mingyi Yao,Liang Li,Miao Jiang,Jiangliu Shi
2023 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS)pp.1-3, (2023)
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Line edge roughness analysis and simulation at advanced litho process
Yufei Sha, Jiahao Xi,Liang Li,Miao Jiang,Di Liang, Ran Zhang, Ganlin Song, Enqiang Tian, Xiuyan Cheng, Futian Wang, Cuixiang Wang, Guangying Zhou,
2023 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS)pp.1-3, (2023)
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